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    设备功能分类-科技支撑

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    氧化物分子束外延系统(OxMBE)

    仪器编号:20103108-9001

    联系方式:0571-88119556

    放置地点:4#103

    开放范围:校内外

    自主操作 送样检测

    实验室:

    职位:

    邮箱:

    仪器编号 20103108-9001 联系方式 0571-88119556
    放置地点 4#103 开放范围 校内外
    自主操作 送样检测
    实验室 职位
    邮箱
    • 仪器基本信息
    • 样品要求
    • 收费标准

    氧化物分子束外延系统购自于国内著名科研设备仪器公司,可用于各类薄膜样品尤其是氧化物薄膜的制备。其中样品通过加热台上的灯丝采用热辐射加热,加热台上配备有热偶用于监控温度;原材料则安装在热蒸发源/电子束蒸发源的坩埚中,通过灯丝/电子束轰击加热蒸镀到样品表面,蒸发量由晶振片进行标定。该设备具有生长的样品质量高、可以原子尺度精确控制薄膜的生长过程、样品制备结束后可直接传输到其他设备进行表征等特点。




    主要技术参数

    1、烘烤后本底真空度优于3*10-10mbar;

    2、多维度manipulator,温度最高可升至1000℃

    3、Kcell和ebeam蒸发手段

    4、配备臭氧发生装置

    5、配备高精度掩膜版

    6、配有rheed和晶振等监测系统,实时反馈样品生长信息;

    7、配有全自动程控系统,用于manipulator操纵、升降温和掩膜版及shutter机械移动等


    主要功能特点

    1.该系统具备生长薄膜材料尤其氧化物薄膜材料的必备条件,可以制备高质量的外延薄膜
    2.该系统接入新利体育app 超高真空互联系统,生长后的样品可在超高真空保护下传入其他设备实现样品原位性质和结构表征。




    学科应用领域


    表面科学,材料合成,凝聚态物理,半导体物理,晶体生长







    1、样品应为固体材料(单晶、多晶、薄膜均可)。衬底需充分粘牢。其表面需平整,或经过真空处理后表面平整;

    2所选衬底厚度一般不超过5mm,尺寸一般不超过10mm*10mm。有特殊需求的请提前联系技术员。





    类型

    项目

    细则

    校内收费

    校外收费

    说明

    自主上机

    制备金属、半导体、氧化物等薄膜材料和器件

    需预约并经过培训和考核;用户自备衬底和蒸发源,若使用平台蒸发源,需另付费

    400 元/时

    或4000元/天

    或20000元/周

    /

    平台需对材料的安全性和实验可行性进行评估。不接受校外人员完全自主上机。

    协助实验

    在平台人员参与下薄膜样品的生长

    用户需尽可能提供具体工艺参数,否则摸索条件过程会消耗不少机时。用户需自备衬底和蒸发源,若使用平台蒸发源或者衬底,需另付费

    600元/时

    或6000元/天

    或30000元/周

    800元/时

    或8000元/天

    或40000元周

    平台需对材料的安全性和实验可行性进行评估。整个实验过程需平台人员从旁协助,统一按照自主上机的1.5倍金额收取实验费用

    培训

    仪器原理、操作培训

    一对一/一对二培训;同等内容的第二次培训,收费1.5

    600元/时

    800元/时





    联系地址:浙江省杭州市西湖区云栖小镇石龙山街18号

    邮 编:310024

    联系电话:0571-86912897

    邮 箱:lhpt@westlake.edu.cn

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